NITTO SEIKI - Oligo Logic Culturing Cleanse

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Caractéristiques

Cleans off makeup and pore stains while protecting moisture.

Contains oils similar to sebum to protect moisture and prevent dryness.

How to use:

Take an appropriate amount on your dry hands and gently massage with your fingers to apply to the makeup.

Then rinse well with water or lukewarm water.

Ingrédients principaux

Tri (caprylic acid / capric acid) glyceryl, glycerin, PEG-20 glyceryl triisostearate, water, surfactin Na

Les ingrédients peuvent changer à la discrétion du fabricant. Pour connaître la liste complète et à jour des ingrédients, veuillez vous référer au packaging.

Détails

Informations produit

Pays de fabrication :	Japon
Référence :	1109641359

À propos de la marque : NITTO SEIKI

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