HAP+R - Selectively Purifying Face Wash
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Ingredientes principais
Water, Glycerin, Propanediol, Stearic Acid, Hydroxyapatite, Myristic Acid, PEG-32, PEG-6, Lauric Acid, Glycosyl Trehalose, Potassium Hydroxide, Sodium Cocoyl Methyltaurate, Lauramide DEA, Hydrolyzed Hydrogenated Starch, Glyceryl Stearate (SE), Aluminum Magnesium Silicate, Xanthan Gum, Dipotassium Glycyrrhizate, Hexyl Dimethylolpropionate, Butylene Glycol, Hydroxypropyltrimonium Hyaluronate, Cocoyl Arginine Ethyl PCA, Actinidia polygama Fruit Extract, Fragrance
Ingredientes sujeitos a alterações a critério do fabricante. Para obter a lista de ingredientes mais completa e atualizada, consulte a embalagem do produto.
Detalhes
Informações do produto
| Fabricado em: | Japão |
| Nº do catálogo: | 1070659660 |
Sobre a marca: HAP+R
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