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HAP+R - Rich Selectively Purifying Cleansing Cream
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Detalles
How to use:
Ingredientes principales
Squalane, water, BG, hydroxyapatite, glycerin, polyglyceryl-10 laurate, kaolin, glyceryl stearate (SE), magnesium aluminum silicate, xanthan gum, glyceryl stearate, hexyl dimethylolpropionate, dipotassium glycyrrhizinate, fragrance
Los ingredientes pueden cambiar por decisión del fabricante. Para obtener una lista completa y actualizada de los ingredientes, consulta el envase del producto.
Información
Información del producto
| Fabricado en: | Japón |
| N.º de catálogo: | 1133098633 |
Acerca de la Marca: HAP+R
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