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HAP+R - Rich Selectively Purifying Cleansing Cream
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Recursos
How to use:
Ingredientes principais
Squalane, water, BG, hydroxyapatite, glycerin, polyglyceryl-10 laurate, kaolin, glyceryl stearate (SE), magnesium aluminum silicate, xanthan gum, glyceryl stearate, hexyl dimethylolpropionate, dipotassium glycyrrhizinate, fragrance
Ingredientes sujeitos a alterações a critério do fabricante. Para obter a lista de ingredientes mais completa e atualizada, consulte a embalagem do produto.
Detalhes
Informações do produto
| Fabricado em: | Japão |
| Nº do catálogo: | 1133098633 |
Sobre a marca: HAP+R
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